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張平全
為國出力的時候到了
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樓主  發表于: 2020-07-12 05:42
我們做的是晶體生長行業超高真空設備，需要在超高真空4.0E-11Torr環境內把指甲大小，厚度約0.2mm產品加溫到800度左右，普通的發熱管，發熱片是不行的，如果有接觸到這類國外設備的朋友們，請提供參考
由于眾所都知的原因，我們公司已承接到國家級的一個小技術項目開發，在國外這是幾十年前就有的技術，但國內還處于空白狀態，我們需要從零開始奮起直追，希望得到以下技術參考，謝謝

由于在回復大家的信息過程 中，出現了多次360退出及信息被轉移的情況，有些信息我不再回復祥細技術內容，請理解
[ 此帖被張平全在2020-07-15 23:40重新編輯 ]
honggun
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1樓  發表于: 2020-07-12 23:17
加熱的空間多大？一次加熱一片還是一次加熱很多片？
樓主留言：
加熱是個半圓柱體，腔體內空間直徑500毫米，高度約400毫米，搭建的是六個工位，但都沒有成功的痕象，包括使用機器視覺測量晶體狀態的技術手法都使用了，我們參與后，在原有模式下，我們僅使用一個工位，做出了OK品，但重復比例不高，很多是著急，就是無不精確加熱控溫，團隊目前受困于加熱材料和測溫手法，期待你更多的支特
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